日本小山市–(BUSINESS WIRE)–(美國商業資訊)–半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總部：栃木縣小山市，董事總經理兼執行長：Katsumi Uranaka）將參加於太平洋標準時間2023年2月26日（星期日）至3月2日（星期四）在加州聖荷西舉行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大會。 Gigaphoton將介紹有助於提高產能的尖端技術，以及採用DUV光源技術永續性解決方案。此外，Gigaphoton還將介紹EUV光源的研發進展。 * 如果您希望在您的材料中引用這些論文，請聯絡我們。 口頭演講： 1) 透過領先的浸潤式光源同時改善邊緣放置誤差(EPE)和可用性 [論文編號：12494-44] 2) 半導體製造的電漿動力學和LPP-EUV光源的前景 [論文編號： 12494-45] 論文： 3) LPP-EUV光源關鍵組件的開發進展 [論文編號：12494-51] 4) 工程維護決策用的機器學習準分子雷射性能模擬器的開發 [論文編號： 12496-101] 5) 利用ArF浸潤式微影的最新光源GT66