日本小山市–(BUSINESS WIRE)–(美国商业资讯)–半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：栃木县小山市，董事总经理兼首席执行官：Katsumi Uranaka）将参加于太平洋标准时间2023年2月26日（星期日）至3月2日（星期四）在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会。 Gigaphoton将介绍助力提高产能的前沿技术，以及基于DUV光源技术可持续性解决方案。此外，Gigaphoton还将介绍EUV光源的研发进展。 * 如果您希望在您的材料中引用这些论文，请联系我们。 口头演讲： 1) 通过领先的浸入式光源同时改善边缘放置误差(EPE)和可用性 [论文编号：12494-44] 2) 面向半导体制造的等离子体动力学和LPP-EUV光源的前景 [论文编号： 12494-45] 论文： 3) LPP-EUV光源关键部件的开发进展 [论文编号：12494-51] 4) 面向工程维护决策的基于机器学习的准分子激光性能模拟器的开发 [论文编号： 12496-101] 5) 利用面向ArF浸入